第三百零四章 謀劃超 (第1/2頁)
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劉焱當初投資研發光刻機，本來就沒想過依靠它盈利，量產型號的光刻機，對外售價只有百萬人民幣。
這個價格只有國外同類產品的三分之一左右，可謂是物美價廉。
可惜這年月，內地的晶圓工廠大多不成氣候，後續訂單就算有，也不會有太多。
好在維創電子公司自己就有晶圓工廠，且盈利豐厚，只要自產光刻機能完美替代進口產品，且能跟隨摩爾定律不斷升級進化，花再多的研發資金也是值得。
表彰大會之後，劉焱召集全體光刻機研發室實驗室成員，召開了一個研討會，對下一步的研發計劃和研發方向進行了部署。
在研討會上，劉焱代表維創電子公司率先發言，說道：
“一微米光刻機已經研發成功，並定型量產，在座的諸位功不可沒。
但這一切都已經是過去式，接下來，咱們要在一微米光刻機的基礎上，再接再厲，研發0.5微米制程的光刻機。
我代表維創電子公司表個態，不管研發過程中遭遇怎樣的困難，需要投入幾億，十幾億，甚至幾十億的研發資金，我們維創電子也在所不惜。
接下來，有請廉教授就下一代光刻機研發計劃，做一下總體規劃。”
廉安平教授拿出一份手寫的稿子，清了清嗓子說道：
“當初劉老闆提供的光刻機研發資料中，有一份0.5微米光刻機研發概要，點明瞭幾個研發要點，包括光源，透鏡系統，雙工臺，掩模臺等等。
其中雙工臺、掩膜臺、控制系統、晶圓傳輸系統，可以透過一微米光刻機的相關部件進行升級改造達成，難度不是太大。
但為了達到0.5微米的加工精度，光源系統和透鏡系統需要重新設計，重新打造，這個難度不是一般的大。”
烏光輝跟著發言道：
“我是搞鐳射技術出身，在光刻機光源方面有一定研究。光刻解析度想要達到0.5微米，光源波長需要達到365nm以下，且對光源強度和均勻度都有非常嚴格的要求。咱們在一微米光刻機上使用的高壓汞燈，理論上其極限能達0.35微米的加工精度，但需要對其結構進行徹底的改造，且越是接近極限，越難以達成。
而被業界普遍認定是下一代光刻機光源的KrF（氟化氪）準分子鐳射，光源波長為248nm，可以使最小工藝節點提升至350-180nm水平。當今世界上，很多鐳射相關的研究所，都在對準分子鐳射進行研發，進度參差不齊，達到實用水平的，一個都沒有。
我的建議是，在光刻機光源方面，兩種線路同時研發，哪個率先取得突破，下一代0.5微米光刻機上，就使用哪一種光源。”
一位光學方面的專家發言道：
“光源波長越短，傳播過程中越容易被透鏡吸收。下一代0.5微米光刻機，如果依舊使用高壓汞燈當光源，使用現在的透鏡組合就足夠了，頂多加工精度再提高一些。
如果使用準分子鐳射做光源，透鏡系統就需要推倒重做，組合裡至少增加兩枚玻璃透鏡，引數也要重新設計，還有鍍膜材質也要重新開發。
這方面研究需要儘快提上日程，如果開發新透鏡組合，需要的計算量非常的大，使用普通計算機計算，需要的時間會非常長，我建議咱們使用ARm1晶片，組裝一臺超級計算機出來。”
一位深鎮大學教計算機的教授，推了推眼鏡出聲道：
“超級計算機確實是個好東西，咱們很多研發中的專案涉及到大量資料計算和模擬測試，如果咱們實驗室有一臺超級計算機，可以把研發速度提高很多。
維創電子公司晶圓工廠出產的ARm1晶片，是世界上第一款精簡指令集晶片，以10萬電晶體數
