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陽威力透過對講機溝通,讓一位名為柏巧玲的女工,送來了幾十片已經塗好光刻膠的矽晶圓,廉安平教授親自動手,將矽晶圓安置到光刻機晶圓入口處的支架上,然後按下操作面板上的啟動按鈕。光刻機內部傳出細微的機械轉動聲音,一張矽晶圓被機械臂送進光刻機內部,在深色玻璃觀察窗上,亮起一抹深邃的紫色光芒,開始對矽晶圓進行加工。

見狀,劉焱出聲詢問道:

“這臺光刻機使用的是哪種光源,是高壓汞燈產生的436nmg-line和365nmi-line,還是248nm的KrF(氟化氪)準分子鐳射作為光源?”

烏光輝回答道:

“現在使用的是高壓汞燈產生的365nmi-line作為光刻光源,理論上,這種光源能一直將光刻機的加工精度提升到0.35微米,作為未來一兩代光刻機的光源足夠使用了。準分子鐳射光源,是下一代光刻機光源技術,咱們研發部已經立項開始研發,但這種技術在世界範圍內,也是最前沿研發專案,開發難度非常高,不是短期內能攻克的。”

這臺光刻機的加工速度還是很快的,即使是初次測試,柏巧玲拿來的幾十片矽晶圓也在二分鐘內,全部完成了光刻加工。這些光滑如鏡的矽晶圓上,多了很多方塊狀的紋路。測試用的掩膜版,是晶圓工廠正在生產的ARm1晶片掩膜版,其複雜程度和尺寸大小,是晶圓工廠出產的所有晶片之最。

按照原本的計劃,第一次光刻測試,應該選用最為簡單的微控制器晶片作為加工目標,這樣一來,就可以從易到難,逐步查漏補缺,將光刻機修改完善。但廉安平教授和幾個主要研發人員,對光刻機測試樣機非常有信心,直接上了最大難度,也是需求量最大的ARm1晶片。

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遊戲掌機熱銷,作為主控晶片的ARm1需求量大增,可是產品合格率始終徘徊在60%~70%之間,提升速度非常緩慢。

經過蒙小剛、廉安平教授以及幾個相關領域的專家研究分析,認為ARm1合格率過低的原因恰恰是光刻機精準度不達標造成的。

晶圓工廠內的這幾條晶片生產線畢竟是使用了一二十年的裝置,能正常生產晶片就不錯了,想要苛求加工引數完全達標,幾乎不可能。其中影響最大的,就是作為核心裝置的光刻機。

廉安平教授親自動手,使用專用夾具,將光刻完的幾十片矽晶圓裝進專用容器,拿去晶片生產線那邊,去進行後續的刻蝕、離子注入、薄膜沉積、化學機械研磨等步驟。

兩個多小時之後,所有工序走完,幾十片矽晶圓,變成了一千多枚封裝完成的ARm1晶片。

劉焱、烏光輝、廉安平教授等高管和研發人員,開始動手對這批晶片進行全面測試。

半小時後,所有晶片測試完成,廉安平教授對測試結果進行了匯總,最後宣佈道:

“此次一微米光刻機測試,共選用了35片矽晶圓,加工過後,切割封裝成1750枚晶片。

經全面測試,合格產品共1203枚,合格率為68.7%。也就是說,咱們光刻機研發實驗室生產的第一臺一微米光刻機,第一次開機測試生產,就成功了,且合格率已經達到了晶圓工廠內現有幾臺佳能和尼康光刻機的加工水平。”

聽完廉安平教授的發言,劉焱帶頭鼓掌,其他維創電子公司高管和研發人員,以及其他負責封裝測試的員工也很快跟上,現場爆發出一陣熱烈的掌聲。

“沒

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