第37章 nm光刻機，正式開始研發！ (第2/2頁)

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，資料上顯示就是個普通的學生，這這這……

十八歲的年輕人，居然能搞出南海“捕魚機”那種可怕的東西？

怎麼做到的？

不是，陸隱的腦子是怎麼長的？

現在的年輕人，都這麼可怕嗎？

曾泉感覺人都麻了，被驚得說不出話，他現在算是明白，趙光譽這個老傢伙，為什麼一定要讓他來監工實驗室了。

不過為什麼就不能提前透露一點，讓他一直矇在鼓裡，是怕他亂說？

他是那種大嘴巴的人嗎？

給幾個孩子都簽了保密協議，也都透露了不少內幕，就是不跟他說，是故意看他出醜的吧！

真是可惡！

曾泉在心裡把趙光譽罵了好幾輪，但還是有些開心，說到底老趙頭對他還是有點子感情的，居然這這等美差都給自己了。

轉頭環顧一週，發現京大的李教授和他的研究生們今天都沒有來，看來這事不僅他一人被瞞著。

這幾個傢伙還不知道他們錯過了什麼吧？

這樣一想，心裡更加開心了。

辦公室。

陸隱將門反鎖後，躺在椅子上，讓意識徹底沉入了腦海。

“小A，把關於1nm光刻機的資料全部調出來。”陸隱說道。

【好的】

腦海中，隨著小A聲音的出現，一沓厚厚的資料出現在腦中的光暈裡。

陸隱手指一點，資料緩緩攤開，漂浮在眼前。

首先就是光刻機的總體結構，大概分為照光系統，掩模臺系統，自動對準系統，調平調焦對準系統，框架減震系統……等。

而光刻機的整個結構中，最難的地方在於高精度的光源和光刻膠、鏡頭、對準技術等。

光刻機的核心難點在於光源技術，特別是極紫外線光刻機的光源技術。

在極紫外線技術出現之前，深紫外線光刻機是主流，它們使用193奈米波長的短波紫外線。

而極紫外線光刻機則使用13.5奈米的極紫外線，這要求極高的精度和穩定性。

另外，光刻膠是光刻過程中的關鍵材料，其性質和特性對晶片製造有重大影響。

光刻膠的厚度、硬度、粘度等屬性都需要精確控制，以實現高精度的圖案轉移。

鏡頭技術也很重要，光刻機的鏡頭需要極高的純度和精度，以確保圖案的精確投影，這涉及到光學誤差的控制，要求系統具有極高的精度。

除此之外，還有對準技術。

在光刻過程中，將掩膜上的圖案精準對位到矽片上是關鍵步驟，這需要高精度的光學、機械和計算機控制技術。

此外，光刻機對工作環境要求也是極為嚴格，光刻機的工作環境必須絕對無塵，以確保晶片生產的精度和質量，同時，工作臺必須具有高精度，以確保多次曝光和對準時的高度準確性。

其中的技術成本和難度也是極大的，光是技術領域就涉及光學、機械、電子、計算機等多個領域。

用到的材料和裝置成本也是極為高昂，且製造週期極長，總的來說，這是一項比製作鐳射武器還要精細且費精力的研發。

但，1nm光刻機的研發，勢在必行！

這是華國想要解除西方列國科技封鎖的重要一步，無論失敗多少次，都必須要做到！

一個小時後，陸隱拿著厚厚一沓資料開啟了辦公室的門。