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阿貝爾實驗室自從得到莫水的“晶片空間”專利權後，立即在美國的專利局進行登記，同時，由實驗室總部的系統分析專家團透過全面地進行“晶片空間”應用分析後，向全球的實驗分室釋出了新的系統研究支援方案，並透過掌握的眾多的系統周邊的硬體研究實驗室釋出新的系統需求。
就這樣，透過了美國阿貝爾物理實驗室，全球的各個IT相關的基礎性的研究實驗室，開始了新一輪的技術升級研究熱。其實，哪個實驗室會沒有技術儲備呢？！現在，只是因為這些的技術儲備的某些方面已經可能將會走向檯面上了，因此，對新的技術，新的方向，發個公告，表示嚴重關切之後，便繼續著自己的研究罷了。
莫水對於這些資訊基本上是充耳不聞，除了在心裡BS了全球的那些知名的實驗室外，繼續埋頭著自己的實驗。
這陣子，由於程鵬在對I/O匯流排的系統整合方面進行研究，因此，莫水難得的有單獨行動時間。在CLASS100與CLASS10裡面，由於阿貝爾實驗室總部的新的系統解決方案的釋出，現在實驗室裡本來就不多的人，基本上都往設計室去了，與時俱進，實驗室怎麼說都是為了經濟效益服務的，因此，在新的系統解決方案面前，有很多的專案需要進行研究的。這樣的好處，就是為莫水創造了大量的安全實驗時間。
經過了幾天的關鍵性電路的研究實驗後，莫水現在終於可以著手進行完整晶片的製作了。為了能夠保障這一行為動作的絕對安全與隱秘，在CLASS10裡面，莫水製造了大量的在研究南北橋晶片三位一體的研究工作的錄影。
在作足了各項準備工作後，莫水來到上海的初衷，來到阿貝爾實驗室的目的，現在終於走上了最後的關鍵步驟。
Class10實驗室只是提供了90奈米的晶片製造裝置，對於65奈米、30奈米的裝置，老美是不可能會放到中國的實驗室的。但是，就算是90奈米的製造裝置，還是完全滿足了莫水的要求，如果不是受限於晶片物理尺寸的大小，莫水甚至還希望採用更低標準的製造裝置，100奈米或則是130奈米的裝置都是可以的。畢竟“卦象晶片”所使用的電晶體不會超過1。01億個的。當然，如果想開發更高階的，效能更優越的“卦象晶片”，那麼更高水平的晶片奈米制造裝置是必須的。
星期五，中午12點過一刻，Class10實驗室內，莫水正緊盯著監控儀器。
由於是採用奈米蝕刻法（Nanoimprintlithography，簡稱NIL），來進行晶片製作，因此，關鍵的地方就是要設計好模型。而這模型，莫水已經是完全地建立了起來，並且也經過了區域性的電路試驗，所以，出成品的成功率是相當的高的。
其實，整個晶片，結構是相當簡單的，就是簡單的電子卦的一個集合而已。但是，越簡單的東西，所能發揮的效果就越大。
易簡而天下之理得矣！“卦象晶片”其實也就是這個道理。
在實驗臺上進行晶片的製作，過程說快也快，說不快，那當然不能和工業化的比較。在下午上班之前，莫水已經得到了三片3cm*3cm*3cm這樣尺寸的晶片。為了能夠得到這樣的尺寸的晶圓，莫水也是煞費苦心過。這種尺寸的晶片，應該是在業界從來不曾出現過的。畢竟從常理來看，晶片厚度是關係到晶片散熱的關鍵問題，把晶片厚度尺寸作的如此厚，那是根本不可想象的，但是，現在在“卦象晶片”中，量子態的電子集團的執行，基本不產生熱效應，這為晶片的厚度創造了條件。
其實，整個“卦象晶片”是一箇中空的八卦球體，圍繞著後天文王八卦的電子卦依據這八個卦層層地展開著。在這裡面，只存在著規則，數理執行的規則，八卦的規則，除了這
