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沒了海外釋出會的事情，林雲倒是輕鬆許多。
林雲在接下來過年之前的日子基本上都會呆在華騰半導體。
華騰半導體才是林雲最為重視的業務。
現在的公司內部也開始了對於光刻機技術的研發，公司在這幾年也邀請了許多專業的人士進行光刻機的研發。
光刻機的主要組成部分為光學系統和機械系統。
光學系統其中包含著曝光光源透鏡，反射鏡等一系列的元素的硬體。
它的功能是將掩膜板上的圖形投影到矽片上。
而機械系統包括機械平臺運動操控系統和自動對位系統，這些系統能夠負責精確的控制矽片的位置和移動。
同時光刻機也會根據光源的波長不同進行進一步的光源劃分。
其中光源的劃分分為可見光，紫外光，深紫外光以及極紫外光幾大型別。
光刻機的工作原理說起來也非常的簡單。
曝光和顯影！
曝光的過程是將掩膜板上的圖形透過光學系統投影到矽片。
這個過程需要先準備好光源，透過一系列的光源能量形狀控制的手段將光束透射過畫著線路的掩膜板。
這種控制光束的形狀大小的方式被我們俗稱為晶片製程。
經過物鏡進行光學的誤差補償，將線路圖以等比例縮小的方式對映在矽片上面。
接著利用化學的方式進行顯影得到矽片上的電路圖。
這就是光刻機的使用的工作原理。
具體來說光刻機在利用光源發出的光，透過具體的光照對圖有光刻膠的薄片曝光，光刻膠在進光之後會發生性質變化，從而使得光照上的圖形影印在薄片上。
總體來說，光刻機的工作原理類似於照相機拍照，透過光學成像的原理將一些電路圖對映到光刻膠上從而列印到矽片上。
光刻機生產困難的原因其實有很多。
首先光刻機在技術難度非常的巨大。
光刻機的生產需要極高精密度的技術和工藝水平，涉及到光學，材料學，電腦科學等多個領域。
另外，光刻機的製造成本非常的高昂，光刻機需要大量的資金投入，涉及到各種高精密度的儀器裝置的購買和維護，以及大量技術人員的聘用和培訓。
同時光刻機也是一種高複雜的裝置，需要專門的人員進行定期的維護和保養，否則會出現裝置故障影影響到生產的效率。
目前的整個全球能夠自主生產光刻機的公司也就只有三家，而這三家公司所生產的光刻機的元器件來自於全球最為頂尖的科技公司。
這些精密的元器件的生產難度和運輸難度都非常巨大。
目前光刻機之中最難的則是在光學變數的控制上面。
光學投影是光刻機目前主要採用的方式。
光刻機透過精準的光源能量和形狀控制手段，將光束透過描述的電路圖案的掩膜版，再經過物鏡修正的各種光學誤差，將電路圖以等比例的方式縮小在矽片上。
光學投影最大的難度是要在保持較高精準度的同時提升相對的效率，就比如說你如何將光縮減到幾奈米的同時也能夠精準的對映在矽片上。
這不僅需要將光縮小，同時也要保證光擁有著足夠的亮度和能源來保證能夠在矽片上進行對映。
也正因如此在保證光束的精準度的同時，又要保證較高的效率，這成為了光刻機技術突破的最大難題。
光學系統則是目前光刻機需要重點解決的問題之一。
林雲所在的華騰半導體最近已經開始和目前的國內的各大高校尋求更為深層次的合作。
並且也開始逐步的聯絡了華夏的一些科
