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時間轉眼而逝,初冬的京大已經感覺到寒冷,尤其是在一場小雨過後,寒意像針一樣無孔不入。

今年的第一場雪,很快就要來了。

實驗室外寒風習習,實驗室內卻溫暖如春,華科院的八名研究生和曾泉此時內心更是一片火熱。

他們早早等在實驗室,看到陸隱進來急急迎了上去。

“陸工!”

“陸工!”

“陸工!”

“是今天嗎!”

陸隱沒說話,將身上的大衣脫下掛在架子上,神情凝重地掃向面前幾人。

前幾天他就說過,等資料計算無誤,一切都準備齊全後,就可以開始對1nm光刻機雛形正式進行第一次試驗。

“都跟我進來一下。”

陸隱走進辦公室,開啟了電腦,指著電腦上的草圖和資料,對幾人說道。

“不出意外,今天正式開始第一次實驗,但在試驗開始之前,這些資料我需要你們再繼續驗算一遍,資料無誤,我今天就會申請關於材料,材料一到,即可開始著手準備。”

“是!明白!”

幾人心中一陣亢奮,齊齊大喊。

隨即幾人快速將電腦上的草圖和資料一份份複製下來,快速回到了自己的工位上,做好試驗研發前的最後一項準備工作。

幾人走後,陸隱卻坐在電腦前出了神。

今日對1nm光刻機雛形進行第一次實驗研發,是早就定好的事情,也是必要經過,但他心裡總有些不安。

這次的實驗過程,實在太過順利了些,他總覺得缺少些什麼,心裡不踏實。

難道是過程太快?

陸隱閉目躺在椅子上,意識沉入腦海,在腦中一遍遍回想起關於1nm光刻機的各種程式和步驟。

光刻機的演進過程十分複雜,但它的核心只圍繞著三個定律。

一是摩爾定律。

簡單來說,整個世界都是由“0”和“1”組成,而在晶片裡,表示“0”和“1”的基本元件就是電晶體,電晶體越多,晶片的運算速度就越快。

摩爾定律的意思就是說,同樣大小的晶片,每隔兩年裡面的電晶體數量就會增加一倍,同理,效能也會增加一倍。

這就要求晶片製造得越來越精細,如今市面上的晶片已經進化到,要求兩個器件之間,只能有幾個奈米的距離了。

通常來說,造小的東西,核心思想就是放大,舉個例子,像用機械的放大,就像槓桿這類的機械機構原理,但在奈米級精度上,機械的方法卻又不夠用了,所以就啟用了“光”。

那麼光又怎麼放大?

其實很簡單,投影!

像是我們日常生活中用到的投影儀,光刻機的核心就是造一個放大的,透光的模子,把想要的形狀印在模子上,光透過模子照射在矽片上,這樣就能製造出小尺寸的東西。

但因為技術瓶頸,這一項技術十年前就已經不用了。

目前世界上最先進的技術是“EUV”,這是鬱金香國的ASmL公司用二十年研發出來的。

說到這,就會引出第二個定律,瑞利判據。

總的來說,光刻機的研發是個極其複雜且精細的過程,哪怕一點點奈米級錯誤,哪怕是一粒灰塵,都會讓整個研發毀於一旦!

另外還有存放光刻機的廠房,也必須是特殊材料製作,細節非常多,首先第一點,廠房的光必須要求是黃色。

原因就是光刻膠對短光明顯,用黃色光對於晶圓製造來說就相當於把燈給關了,就像衝膠捲必須要在暗房中一樣。

且還有一個重要因素,必須要求無塵!

這也就是為什麼之前曾泉帶

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